• Allgemein: frei von Verarbeitungshilfsstoffen, Partikeln und Flecken (gemäß Bright- und UV-Lichtprüfung)
  • Besondere Anforderungen im μ- und Nanobereich
  • Extreme Grenzwerte in Bezug auf organische Reststoffe oder Restfeuchte
  • Atomare//molekulare Grenzwerte im atomaren %-Bereich oder deutlich darunter
     
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